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KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺

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后更新时间:2022-05-13
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品牌:
KRI
 
 
 
售后服务:由伯东企业(上海)有限公司从上海浦东新区发货,并提供售后服务
  • KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺
    离子束抛光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的##一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件. 上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机  IBF Optical coating  及晶体硅片离子束抛光机  IBF Clrystalline )工艺.
    考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更###离子源于离子抛光机内部的移动运行. 上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理.

    KRI 离子源离子束抛光实际案例一:
    1. 基材: 100 mm 光学镜片
    2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).

    离子束抛光前平坦度影像呈现图 离子束抛光后平坦度影像呈现图

    KRI 离子源离子束抛光实际案例二:
    1. 基材: 300 mm 晶体硅片
    2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )

    离子束抛光前平坦度影像呈现图 离子束抛光后平坦度影像呈现图


    KRI 离子源实际安装案例一:  KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机

    KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机



    上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:

    型号

    KDC 10

    KDC 40

    KDC 75

    KDC 100

    KDC 160

    电压

    DC magnetic confinement

    - 阴极灯丝

    1

    1

    2

    2

    2

    - 阳极电压

    0-100V DC

    电子束

    电子束

    - 栅极

    专用,自对准

    - 栅极直径

    1 cm

    4 cm

    7.5 cm

    12 cm

    16 cm



    1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

    若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134


  • 位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月,是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业,公司注册资金为800万美元。    本公司主要是一家以经营电子接插件、线束、电线以及机械设备、真空产品等精密仪器、设备的维修,以及以半导体制造装置、基板制造装置、电脑软件为主的国际贸易、转口贸易及保税区企业间贸易及保税区贸易代理、贸易及相关技术咨询的公司。 公司一直坚持品质一、信誉至上的原则,为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、 ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本,不断开拓进取的精神,为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。
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